高品質な製造環境制御

高品質な製造環境制御

歩留まり向上に不可欠な、
外乱影響を受けない
クリーンな製造環境

電子デバイス施設では、微振動やケミカル物質の制御など、品質・歩留まりに直結する高度なクリーン環境が求められます。当社技術研究所のクリーンルームでは材料試験や検証実験を行うこともでき、高品質で経済的な製造環境を提供します。

クリーン環境構築

最先端の半導体工場や電子デバイス工場に最適なクリーン環境を構築します。

最先端の半導体プロセス向けクリ-ンルーム、材料・部材加工に適した経済的なクリーン環境など、お客様の製造プロセス・装置レイアウトにマッチした最適なクリーン施設を提供します。

  • 高清浄度・大空間クリーンルーム

    半導体の最先端微細加工プロセスに対応した、高清浄度な大空間クリーンルームを提供します。

    高清浄度・大空間クリーンルーム
  • ローコスト大規模クリーンルーム

    建築構造とシステム天井の合理的な一体化により、大型FPD製造等に最適なクリーン空間を提供します。

    ローコスト大規模クリーンルーム

ケミカル・金属汚染対策

製品の歩留まりに影響するケミカル・金属汚染を確かな実績に基づいた技術で排除します。

お客さまの製造環境に応じて、制御対象物質と濃度レベルを提案し、発生源に応じた合理的な対策を行います。

ケミカルフリークリーンルーム

最先端の半導体・液晶の微細加工プロセスでは、分子レベルのケミカル汚染が歩留まりに影響します。ケミカル汚染は発生源が多岐にわたり、総合的かつ横断的な制御と対策が必要です。

ケミカルフリークリーンルーム

微振動対策

生産歩留まりに影響する振動に対し、様々な防振技術で対応します。

微振動に関する要求性能を確保するため、豊富な実績に基づいた予測手法、対策技術を駆使し、一貫した防振エンジニアリングを行います。

微振動対策
  • アクティブ微振動制御システム(TACMI®)

    精密機械を直接設置する架台で、多くの納入実績があります。微振動を最大1/100に低減できます。

    アクティブ微振動制御システム(TACMI®)
  • 精密装置用高剛性基礎

    高剛性・高耐振強度を確保したプレキャスト基礎です。ノンケミカル・ノンダスト工法を特徴としています。

    精密装置用高剛性基礎
  • アクティブ床制振装置

    既設床の振動を1/2~1/3に低減できる制振装置です。既設床の振動環境向上に最適です。

    アクティブ床制振装置

シミュレーション・可視化

気流シミュレーション解析

生産装置発熱を考慮したクリーンルーム内の気流、温度分布、ホコリやガスの拡散状態などのシミュレーション解析を行い、可視化して検討します。

シミュレーション・可視化

クリーン環境実験施設

竹中技術研究所内のクリーン環境実験施設(可視化クリーンルーム・ドライクリーンルーム・バイオクリーン・バイオセーフティー実験施設)では、様々な条件でクリーン環境の実証実験が可能です。お客様の設備を実際に持ち込み検証し、工場のクリーン環境設計に反映します。

関連施設

用途に応じて室圧のコントロールが可能です。設備導入を考えておられる方々に実際に使っていただき建てる際にはどのような配置が良いかなどをご検討いただいています。

ドライルーム

  • ドライクリーンルーム

    気流制御や局所化など、様々な製造ニーズに対応したドライクリーン環境を構築します。

    ドライクリーン空調によるリチウムイオン二次電池製造施設
    ドライクリーン空調によるリチウムイオン二次電池製造施設
  • ヒートポンプ型ドライ空調

    低温再生可能なデシカント式ドライ空調機にヒートポンプを組み込みランニングコストを低減します。

    ヒートポンプ型低温再生デシカント除湿システム
    ヒートポンプ型低温再生デシカント除湿システム

静電気対策

  • 静電気対策技術の概要

    電子デバイスや先端材料の製造環境に必要な静電気対策を提供します。仕上げ材の帯電防止、イオナイザ設置や湿度管理、アースなどの対策検討から、検証測定まで対応します。

    静電気対策